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이차원소재 위에 이차원소재 패턴 직성장 기술
한국과학기술연구원 박재현
연구내용
  • 이차원 소재 직접 패턴 성장에 있어서 성장 기판의 성장층으로서 표면 댕글링 본드를 갖지 않는 이차원 소재를 사용함으로써 마스킹 블록과의 화학적 결합을 방지하여 디본딩 공정을 용이하게 수행할 수 있음
  • 또한, 마스킹 블록과 성장 기판 사이에 액상 하이드로 카본을 제공하고 계면 영역에서 미세 그래핀을 형성함으로써 마스킹 블록과 성장 기판의 점착력을 증가시킴으로써 이차원 소재의 패턴 직성장 과정에서 마스킹 블록의 슬립을 방지할 수 있음
특허번호