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기술 문의
플라즈마 공정을 적용한 반도체 양자점의 생성 및 크기 제어
한국표준과학연구원
김정형
연구내용
플라즈마 공정을 적용하여 비정질 반도체 박막으로부터 균일한 결정성을 갖는 반도체 양자점을 생성하고 그 크기를 제어할 수 있는 반도체 양자점의 생성과 크기 제어 방법 및 시스템
특허번호
10-2497991
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