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고순도/고결정성 그래핀 양자점 패터닝 기술
한국원자력연구원 하준목
연구내용
  • 유해 화학물질을 사용하지 않은 고순도/고결정성의 그래핀 양자점 패터닝 기술
  • - 이온빔이 조사되는 위치에만 순수 그래핀 양자점을 제조할 수 있는 기술로, 고순도/고결정성 그래핀 양자점을 제조 및 마이크로 미터 이하의 초정밀 미세 패터닝 할 수 있는 기술
특허번호

10-2352572

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