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공동 TLO 마케팅사무국

사업화 유망 기술

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분말 플라즈마 처리장치
한국핵융합에너지연구원 석동찬
연구내용
  • 본 기술은 분말의 표면을 균일하게 처리할 수 있고, 분말 표면의 처리 효율이 증대될 수 있도록 하는 분말 플라즈마 처리장치에 관한 기술임.
특허번호

10-2208457

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