사업화 유망 기술
연구내용
- 반도체 및 디스플레이 제조 공정 중 배출되는 높은 온난화지수(GWP) 온실가스 및 NOx등의 미세먼지를 동시에 고효율로 저감하는 기술 및 처리시스템
- 수소 혼소 및 전소를 이용한 고 GWP온실가스(N2O, NF3, PFCs)를 고효율로 분해 처리하는 기술 적용
- 금속착화합물기반의 신개념 흡수제 및 이의 재생기술 개발을 통한 고성능 습식 Nox 처리 후처리 기술적용
특허번호
특허 원문 보러가기