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미세 패턴 형성용 고분자 몰드의 제조 방법, 이에 의해 제조되는 미세 패턴 형성용 고분자 몰드, 및 이를 이용한 미세 패턴 형성 방법
| 대표분류 | 성형(연삭, 주조, 가공 등) | 구분 | 소액무상특허 |
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| 기술테마 | 성형(연삭, 주조, 가공 등) | ||
| 연구기관 | 한국전기연구원 | 연구자 | 정성일 |
| 기술내용 | 이전대상 특허번호: 10-1416625(한국) 이전유형: 양도 이전비용 : 220만원(부가세 포함) 비고: 미납연차료는 양수인 부담 본 발명은 PDMS나 자외선 경화 수지를 사용하여 제조한 종래의 고분자 몰드가 가지는 문제점을 해결할 수 있는 새로운 재질의 고분자 몰드 및 그 제조 방법을 제공하는데 주된 목적이 있는 것이다. 상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 기판에 전사하고자 할 나노 또는 마이크로 패턴이 형성된 마스터 몰드를 제공하는 공정; 상기 패턴이 형성된 마스터 몰드의 표면에 PVA 수용액을 도포한 후 경화시켜 PVA 몰드층을 형성하는 공정; 상기 PVA 몰드층에 접합층을 개재한 상태로 몰드 베이스층을 적층 형성하는 공정; 및 상기 마스터 몰드를 분리하여 PVA 몰드층 및 접합층, 몰드 베이스층으로 이루어진 일체의 고분자 몰드를 완성하는 공정;을 포함하는 미세 패턴 형성용 고분자 몰드의 제조 방법을 제공한다. |
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