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플라즈마 전해 산화법에 사용되는 전해질 내 ＳｉＯ₂농도의 분석방법 및 이를 이용한 전해질의 수명연장방법
| 대표분류 | 도금 | 구분 | 소액무상특허 |
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| 기술테마 | 도금 | ||
| 연구기관 | 한국과학기술연구원 | 연구자 | 오영주 |
| 기술내용 | 이전대상 특허번호: 10-0758895(한국) 이전유형: 양도 이전비용 : 3백~5백만원 비고: 부가세 별도, 추납기간 비용등 감안하여 금액 변동 본 발명은 알루미늄 합금 표면에 마이크로 플라즈마를 이용하여 산화막 및 복합 세라믹 코팅을 형성시킬 때 사용하는 전해질의 수명연장기술에 관한 것이다. 본 발명은 중합되지 않은 상태로 전해질 내에 존재하는 SiO2의 농도를 빠른 시간 내에 분석하는 방법과, 이러한 분석방법에 의해 전해질 사용시간의 증가에 따라 부족해지는 전해질의 구성성분을 첨가함으로써 전해질의 수명을 연장하는 방법을 포함한다. |
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