| 기술내용 |
본 발명은, 탄소재 수직 표면처리 장치에 있어서, 상부 및 하부에 각각 탄소재유입공 및 탄소재배출공을 가지며, 축선을 따라 수직 배치되는 관 형상의 열처리로와; 상기 열처리로 내에 배치되며, 탄소재가 벽면을 따라 슬라이딩 하강하여 기울기에 따라 상기 탄소재의 낙하속도가 조절되는 속도조절부와; 상기 탄소재가 상기 속도조절부로 낙하하도록 상기 탄소재유입공으로 상기 탄소재를 공급하는 탄소재공급부와; 상기 탄소재배출공을 통해 상기 속도조절부로부터 배출되는 열처리된 상기 탄소재를 적재하는 탄소재적재부와; 상기 열처리로의 하부에서 상기 속도조절부 내부로 탄소재 표면개질용 가스를 유입하는 가스유입부와; 상기 가스유입부로부터 유입된 상기 표면개질용 가스를 상기 속도조절부의 외부로 배출시키는 가스배출부를 포함하는 것을 기술적 요지로 한다. 이에 의해 열처리로의 상부에서 낙하하는 탄소재와 하부에서 상부로 유입되는 표면개질용 가스가 서로 접촉하는 탄소재 수직 표면처리 장치를 이용하여, 탄소재 표면에 존재하는 이물질, 수분 및 산성 관능기가 단시간 내에 제거되며, 표면 개질 시간이 짧아 탄소재의 탄소 구조 변형이 방지되는 효과를 제공한다. |
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