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공정가스 분석장치

공정가스 분석장치 상세정보
대표분류 측정/검사/시험 구분 소재부품장비 기술분야
기술테마 반도체 기판∙소자 및 이들 제조 관련 기기
연구기관 한국표준과학연구원 연구자 강상우
기술내용 본 발명에 따른 공정가스 분석장치(100)는, 공정가스가 수집되도록 설치되는 가스셀(130); 가스셀(130) 내에 광을 조사하도록 가스셀(130)의 외부에 설치되는 광원부(110); 광원부(110)를 통하여 가스셀(130) 내에 조사되는 광을 가스셀(130) 내에 다중 반사시킨 후 가스셀(130) 외부로 인출하도록 설치되는 다반사 광학부(140); 및 다반사 광학부(140)에 의해 다중 반사된 후 가스셀(130) 외부로 인출되는 광을 수광받도록 가스셀(130)의 외부에 설치되는 광검출부(120); 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 다반사 광학부(140)에 의해 광경로가 충분히 확보될 수 있기 때문에 소량의 공정가스에 대해서도 정밀한 정량 및 정성 분석이 가능하다. 또한, 광원부(110)와 광검출부(120)가 가스셀(130)의 외부에 분해조립 가능하게 설치되기 때문에 원하는 광분석 기법에 맞게 해당 광원부(110)와 광검출부(120)를 적절한 것으로 교체할 수 있어 다양한 분석기법을 활용할 수 있다.
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