| 기술내용 |
본 발명은 타원계측기(ellipsometer)에 관한 것으로, 보다 상세하게는 특정 편광상태(polarization)를 지니고 시편의 표면에 입사한 빛이 반사된 후에 가지게 되는 편광상태의 변화를 분석하여 시편의 광학적 특성을 찾아내는 기술이다. 이를 위하여 본 발명의 타원계측기는 광원(light source); 상기 광원으로부터 방출된 빛을 선편광시키는 선형 편광자(linear polarizer), 편광상태에 따라 진행파의 위상을 다르게 바꾸는 보정기(compensator) 등이 구비된 광원부 모듈; 상기 광원부 모듈로부터 편광된 빛을 분할하는 광분할기(beam splitter); 상기 광분할기로부터 분할된 일부의 빛이 통과되어 시편에 집중시켜 조사시키는 대물렌즈(objective lens); 상기 시편으로부터 반사된 빛을 편광시키는 수광부 모듈; 상기 수광부 모듈을 통과한 빛을 단위소자(pixel)로 검출하는 광검출기(optical detector); 상기 광검출기로 검출된 빛의 세기를 각각의 단위소자에 해당되는 값으로 수치화하여 연산처리하는 연산처리장치;를 포함하는 것을 특징으로 한다. |
본문 바로가기
전체메뉴닫기
